二、設備主要參數及技術說明

裝置設計工藝要求：

1.反應器結構：快開半環(huán)式，石英玻璃釜體。

2.反應器操作條件：使用壓力≤0.8Mpa 使用溫度：-20℃-200℃ 設計壓力1Mpa 設計溫度250℃

3.反應器全容積：2000 ml;

4.反應器用材：316L+石英玻璃 ；

5.反應介質：類等產品；

6.加熱方式：夾套循環(huán)加熱，需配備高低溫一體機、配備二苯甲基硅油；

7.反應器密封形式：快開半環(huán)式密封；

8.攪拌方式：磁力耦合機械攪拌，攪拌轉速100-1000r/min；

9.出料方式：反應釜釜底安裝放料閥，放料口開口尺寸盡可能加大（參考客戶購買上一套石英釜）；

10.整體框架：反應釜整體框架與客戶購買上一套相同，此套反應釜框架底部增加移動萬向輪，整體裝置為移動式；

11.特殊要求：高低溫一體機通訊至觸目屏程序控制，高低溫開關集成至觸摸屏操作；

9.控制方式：觸摸屏軟件控制，整機結構簡單設計合理，經濟、耐用、配件齊全，經久耐用；控制面板可顯示調節(jié)轉速、釜內溫度、爐溫、反應釜時間等。設置爐溫上限超溫自斷電保護?？捎肬盤導出實驗數據。

三、主要參數說明：

四、標配配置清單