高溫高壓透明反應釜
裝置設計工藝要求:
1.反應器結構:快開半環(huán)式;
2.反應器操作條件:使用壓力≤0.8Mpa 使用溫度:-20℃-200℃ 設計壓力1Mpa 設計溫度250℃
3.反應器全容積:2000 ml;
4.反應器用材:316L+石英玻璃 ;
5.加熱方式:夾套循環(huán)加熱;
6.攪拌方式:磁力耦合機械攪拌,攪拌轉速100-1000r/min;
7.出料方式:反應釜釜底安裝放料閥;
8.特殊要求:高低溫一體機通訊至觸目屏程序控制,高低溫開關集成至觸摸屏操作;
9.控制方式:觸摸屏軟件控制;控制面板可顯示調節(jié)轉速、釜內溫度、爐溫、反應釜時間等。設置爐溫上限超溫自斷電保護。可用U盤導出實驗數(shù)據(jù)。
高溫高壓透明反應釜
裝置設計工藝要求:
1.反應器結構:快開半環(huán)式;
2.反應器操作條件:使用壓力≤0.8Mpa 使用溫度:-20℃-200℃ 設計壓力1Mpa 設計溫度250℃
3.反應器全容積:2000 ml;
4.反應器用材:316L+石英玻璃 ;
5.加熱方式:夾套循環(huán)加熱;
6.攪拌方式:磁力耦合機械攪拌,攪拌轉速100-1000r/min;
7.出料方式:反應釜釜底安裝放料閥;
8.特殊要求:高低溫一體機通訊至觸目屏程序控制,高低溫開關集成至觸摸屏操作;
9.控制方式:觸摸屏軟件控制;控制面板可顯示調節(jié)轉速、釜內溫度、爐溫、反應釜時間等。設置爐溫上限超溫自斷電保護。可用U盤導出實驗數(shù)據(jù)。